在微電子封裝芯片互連工藝技術中,鍵合技術的演進始終圍繞可靠性與成本兩大核心。20世紀70年代,金(Au)價格的大幅飆升使得鎳(Ni)涂層開始崛起,同時,粗直徑鋁(Al)線逐漸成為功率器件鍵合的主流選擇。本文科準測控小編將站在力學檢測視角,為您解析與Al-Ni鍵合可靠性相關的工藝控制與檢測標準。

一、Al-Ni鍵合的技術優勢與可靠性驗證
根據非公開發表的研究資料及在高溫電子學領域的長期積累,粗直徑(≥75μm)Al金屬引線在Ni鍍層或內層上可實現良好的鍵合,前提是Ni表面不存在氧化物。這一技術已在功率器件大批量生產中應用超過25年,且未報告重大可靠性問題,這一優異表現離不開系統的力學性能測試。
1.1 鍵合強度測試:300℃下的穩定性驗證
研究人員通過有限熱應力試驗(300℃,100小時)對Al-Ni鍵合界面進行了機械強度評估。測試結果顯示,經歷高溫老化后,鍵合點的拉脫力、剪切力等關鍵指標保持穩定,證明機械強度無退化。而鍵合界面電阻僅增加約1%,證明金屬間化合物生長并未破壞導電通路,這一試驗為Al-Ni鍵合在耐高溫產品(如飛機渦輪葉片)中的應用提供了堅實的力學依據。
1.2 金屬間化合物生長動力學分析
Al-Ni相圖雖復雜,包含多種金屬間相,但該鍵合系統具有難熔特性。從熔點數據推算,金屬間化合物相生長的活化能高于1eV,這意味著:在功率器件常規工作溫度范圍內,金屬間化合物生長緩慢,不易形成Kirkendall空洞。
AM Al-Ni合金中常見析出相(圖源網絡)
1.3 電化學腐蝕傾向對比
電化學數據顯示,Ni?和Al?反應具有負勢能,表明Al-Ni鍵合發生電化學腐蝕的可能性遠低于Al-Au鍵合。這為器件在復雜環境下的長期穩定運行提供了保障。
二、Al-Ni鍵合的主要挑戰:可鍵合性問題
與可靠性相比,Al-Ni鍵合在實際生產中面臨zuida挑戰是可鍵合性,而這正是力學檢測在工藝控制中的核心應用場景。
2.1 鎳表層氧化影響
鎳表層會緩慢氧化,形成阻礙鍵合的氧化層,這會導致鍵合點一致性差,生產效率下降。雖然通過增加超聲能量可改善輕微氧化鎳表層的可鍵合性,但從力學檢測視角看,過高的超聲能量可能導致芯片損傷或根部疲勞,長期可靠性難以保證。
2.2 工藝控制要點
針對可鍵合性問題,業界總結出以下工藝控制要點,每一項都需要力學檢測配合驗證。

作為專業的力學檢測與拉力試驗機研發生產廠家,我們從以下維度為Al-Ni鍵合工藝提供全面的測試解決方案:
三、解決方案
從Au到Ni的轉變,是功率器件封裝技術演進的一個縮影。Al-Ni鍵合歷經近半個世紀的量產證明了其在成本與可靠性之間平衡。而這種可靠性的確認,離不開力學檢測技術的持續支撐——從初始工藝參數優化,到長期可靠性評估,再到失效機理分析,每一環節都需要精準的力學數據作為決策依據。
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